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第1章 概述1

1.1 研究背景1

1.2 研究对象和方法5

第2章 LCD专利态势分析11

2.1 LCD全球专利申请分析11

2.1.1 全球专利申请趋势及发展阶段11

2.1.2 全球各技术分支发展趋势16

2.1.3 全球主要国家或地区专利分布18

2.1.4 全球专利申请人排名19

2.2 LCD中国专利申请分析22

2.2.1 中国专利申请趋势22

2.2.2 中国专利各技术分支发展趋势28

2.2.3 中国专利主要国家或地区分布30

2.2.4 中国专利申请人分析35

2.3 LCD专利技术分析40

2.3.1 阵列技术专利分析40

2.3.2 成盒技术专利分析43

2.3.3 测试修补技术专利分析47

2.3.4 背光技术专利分析50

2.3.5 驱动技术专利分析52

2.3.6 固定支撑装配技术专利分析55

第3章 氧化物TFT技术专利分析58

3.1 概述58

3.2 氧化物TFT专利申请态势分析60

3.2.1 全球专利申请趋势及主要国家对比60

3.2.2 各主要技术分支构成及国别对比64

3.2.3 主要技术输出国技术流向分析68

3.2.4 中国专利态势分析68

3.3 氧化物TFT技术发展分析72

3.3.1 氧化物TFT技术发展路线图73

3.3.2 氧化物TFT技术功效分析74

3.3.3 沟道层材料应用状况分析77

3.4 申请人分析79

3.4.1 全球及中国专利申请人排名79

3.4.2 主要申请人专利布局及趋势分析81

3.4.3 各省市产学研分析及国内申请人排名84

3.5 重要申请人专利分析87

3.5.1 三星公司专利状况分析87

3.5.2 夏普公司专利状况分析88

3.5.3 友达光电专利状况分析90

3.5.4 惠普公司专利状况分析92

3.5.5 各公司专利状况对比分析93

3.6 重要发明人分析94

3.6.1 细野秀雄及其团队94

3.6.2 霍夫曼及其团队99

3.6.3 研发团队对比分析107

3.7 重要专利的筛选109

3.7.1 选取规则109

3.7.2 代表性专利目录109

第4章 GOA技术专利分析115

4.1 概述115

4.2 GOA专利申请态势分析116

4.2.1 全球专利态势趋势及主要国家对比116

4.2.2 各主要技术分支构成及国别对比120

4.2.3 主要技术输出国技术流向分析123

4.2.4 中国专利态势分析124

4.3 申请人分析128

4.3.1 全球及中国专利申请排名128

4.3.2 主要申请人专利布局132

4.4 重要申请人专利分析133

4.4.1 友达光电133

4.4.2 京东方136

4.5 重要技术专利分析137

4.5.1 测试技术分析143

4.5.2 修补技术分析143

第5章 三星公司专利分析144

5.1 发展概况144

5.2 三星全球专利分析148

5.2.1 专利申请发展趋势分析148

5.2.2 技术发展状况分析151

5.2.3 目标国家／地区分析153

5.3 三星中国专利分析154

5.3.1 专利申请发展趋势分析154

5.3.2 技术发展状况分析154

5.3.3 法律状态分析156

5.4 三星研发构成分析157

5.4.1 子公司申请状况157

5.4.2 合作申请状况158

5.5 三星公司并购分析183

5.5.1 美国Clairvoyante Inc.183

5.5.2 荷兰Liquavista185

5.6 三星专利许可分析191

5.7 三星代表性专利分析192

第6章 夏普公司专利分析194

6.1 发展概况194

6.2 夏普专利状况分析196

6.2.1 全球专利申请发展趋势分析196

6.2.2 技术发展状况分析197

6.2.3 目标国家／地区分析199

6.2.4 中国专利法律状态201

6.3 夏普研发构成分析202

6.3.1 子公司申请状况202

6.3.2 合作申请状况203

6.4 夏普公司并购分析203

6.5 夏普技术转让分析206

6.6 夏普研发动向分析207

第7章 友达光电专利分析213

7.1 发展概况213

7.2 友达光电全球专利分析215

7.2.1 专利申请发展趋势分析215

7.2.2 目标国家／地区分析217

7.3 友达光电中国专利分析218

7.3.1 专利申请发展趋势分析218

7.3.2 技术发展状况分析218

7.3.3 法律状态分析219

7.4 友达光电专利合作和收购分析221

7.4.1 合作申请221

7.4.2 公司并购分析222

7.4.3 技术引进分析225

7.5 友达光电重要发明人分析226

7.5.1 罗方祯简介226

7.5.2 罗方祯代表性专利227

第8章 专利侵权诉讼状况分析230

8.1 全球专利侵权诉讼整体状况230

8.2 巨头的较量——三星、夏普专利诉讼分析231

8.2.1 夏普公司专利诉讼概况231

8.2.2 三星、夏普专利诉讼案情回顾232

8.2.3 案例评析与启示239

8.3 崛起的代价——友达光电专利纠纷分析243

8.3.1 友达光电近年专利纠纷概述243

8.3.2 案例评析与启示254

8.4 风险与价值——NPE生存模式分析260

8.4.1 NPE近年涉诉案件情况简介260

8.4.2 NPE的风险与价值分析264

第9章 结论267

9.1 针对LCD整体专利态势267

9.2 针对氧化物TFT技术268

9.3 针对GOA技术268

9.4 针对三星公司专利状况268

9.5 针对夏普公司专利状况269

9.6 针对友达光电专利状况269

9.7 针对LCD行业专利侵权诉讼269

附表 主要申请人名称约定表271

图索引280

表索引283